服务热线
| 品牌 | KOSAKA/小坂研究所 | 产地类别 | 进口 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 综合 |
项目 | 内容 | 规格概述 |
1 | 波长范围 | 420~1000nm |
2 | Resolution | 1 nm |
3 | 膜厚测定范围 | 250 A- 20 um |
4 | 膜厚测定精度 | T=±5A, N=±0.02 based on SiO2 1100A standard wafer |
5 | 膜厚测定重复性 | SR Thickness repeatability: ≤ 1Å (1ơ) (at 1100Å, SiO2/Si) |
6 | 测定光源 | 卤素灯泡(含 Constant Current Power Supply) |
7 | 透明基板里面反射补正机能 | 包括透明基板背后反射的修正(软件) |
8 | 测定SPOT径(Spot Size ) | 50 um Diameter ( 20 X Objective ) , can be smaller with less signal / noise ratio |
9 | Tact time | 2S（测试1S+分析1S） |
KOSAKA小坂致东Radiation全光谱反射仪
● 紧凑型膜厚量测设备
● 安装移动迅速便捷
● 适用于所有非金属膜质
● 多样化的应用选择
● 工业标准数据端口
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